聚焦前沿技术 共探半导体痕量成分检测新路径
2025年7月17日，“质析毫微?谱绘万象”半导体痕量成分检测技术交流会在中国科学院上海应用物理研究所学术交流中心隆重举行。本次会议由中国物理学会质谱分会、北京雪迪龙科技股份有限公司联合主办，中国科学院上海应用物理研究所、k8凯发天生赢家一触即发人生、中国仪器仪表学会分析仪器分会质谱仪器专家组协办，吸引了众多科研院所、高校专家学者，半导体产业链企业技术负责人，检测仪器研发精英等齐聚一堂，共同探讨半导体检测技术的前沿动态与国产化发展之路。
半导体痕量成分检测技术交流会参会人员合影
半导体痕量成分检测技术交流会
会议伊始，k8凯发天生赢家一触即发人生总经理卞利萍女士作为本次盛会的主持人，用饱满的热情迎接各位与会嘉宾。随后，中国物理学会质谱分会理事长方向、上海市科委科技基础设施与平台建设处处长张露璐、北京雪迪龙科技股份有限公司董事长敖小强以及中国科学院上海应用物理研究所所务委员黄鹤飞依次上台发表精彩致辞，为本次会议拉开帷幕。
中国物理学会质谱分会理事长 方向
中国物理学会质谱分会理事长方向在致辞中强调，质谱技术在我国材料、半导体以及生命科学等诸多领域都具有极为重要的意义，而近年来质谱技术的国产化替代和突破已成为各界关注的焦点。方向提到，我国在推动质谱技术国产化方面已取得重要进展，得到了国家的大力支持，众多企业家怀着责任感和使命感，抓住市场机遇，推动国产质谱技术的发展。
北京雪迪龙科技股份有限公司董事长 敖小强
北京雪迪龙科技股份有限公司董事长敖小强，强调了此次研讨会对于雪迪龙而言意义非凡，尤其是与中国科学院上海应用物理研究所共同成立飞行时间二次离子质谱上海应用中心，这不仅是雪迪龙与科研院所的一次重要合作，也是推动国产科学仪器发展的重要一步。雪迪龙作为行业领军企业，致力于推动国产仪器的研发与产业化，助力半导体检测技术的自主可控。他希望通过此次研讨会，与各位专家共同探讨如何推动高端科学仪器发展，特别是在半导体相关设备领域。
中国科学院上海应用物理研究所所务委员 黄鹤飞
中国科学院上海应用物理研究所所务委员黄鹤飞在会上致辞，对与会嘉宾表示欢迎，并感谢主办及协办单位对会议的支持。上海应用物理研究所自成立以来，始终以国家战略需求为导向，深耕核科学技术与新能源领域，已成为国际领先的钍基熔盐堆研发中心。研究所的分析测试中心以二次离子质谱（SIMS）为代表的痕量成分检测平台，长期服务于半导体材料和新能源器件等领域。黄鹤飞强调，高端检测仪器的国产化对于保障我国产业链安全至关重要，研究所将与各方携手，推动技术创新与产业升级。
k8凯发天生赢家一触即发人生总经理卞利萍主持本次会议
在开幕致辞之后，举行了一场意义非凡的揭牌仪式。北京雪迪龙科技股份有限公司与中国科学院上海应用物理研究所携手共建“飞行时间二次离子质谱上海应用中心”。这一合作标志着产学研深度融合迈出了坚实一步，为我国半导体检测技术迈向自主可控注入了强大动力。双方将共同致力于质谱技术的研发与应用，推动国产仪器在半导体领域的高端化发展。
飞行时间二次离子质谱上海应用中心揭牌
主题报告环节——
演讲嘉宾：中国物理学会质谱分会理事长 方向
中国物理学会质谱分会理事长方向带来了题为“质谱技术与仪器发展及展望”的报告。
方向表示，质谱技术从发明至今已有一百多年历史，其发展受到应用需求和技术迁移的双重牵引。近年来，随着食品安全、环境监测等领域的需求增长，质谱技术在新材料、生命科学等领域的应用也日益广泛，推动了技术的不断创新和发展。他强调，质谱技术在半导体材料分析、生命科学、高纯材料检测等方面具有重要应用，未来的发展将更加注重高时空分辨、高灵敏度和高选择性等方向。
演讲嘉宾：雪迪龙副总工程师 张倩暄
雪迪龙副总工程师张倩暄带来了题为“基于CRDS等技术的半导体解决方案”的报告。
雪迪龙的主营业务涵盖环境监测、碳监测碳计量、工业过程分析、科学仪器和环境综合服务五大板块。雪迪龙基于光谱、色谱、质谱等技术开发了多种分析仪器，如飞行时间质谱仪、二次离子质谱仪和傅里叶红外光谱仪等，助力科学研究。
针对半导体生产工艺中遇到痕量成分检测的难题，雪迪龙推出了基于光腔衰荡光谱（CRDS）的痕量气体分析仪、以及用于晶圆表面污染检测的飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）等，满足半导体行业对痕量杂质检测的高灵敏度和高精度要求。
演讲嘉宾：中国科学院化学研究所 汪福意研究员
中国科学院化学研究所的汪福意研究员带来了题为“TOF-SIMS在新能源材料领域应用”的报告。
汪福意表示，TOF-SIMS技术能够提供高空间分辨率和高灵敏度的分析，适用于研究材料的表面和界面特性，尤其是在新能源材料的成分和结构分析中具有独特优势。他还分享了其团队在TOF-SIMS技术应用于新能源材料领域的研究成果，包括对锂离子电池、钠离子电池等材料的界面分析，以及通过深度剖析技术研究材料的微观结构和性能关系。研究表明，TOF-SIMS技术能够揭示材料内部的微观结构和化学成分分布，为新能源材料的研发提供了重要的技术支持。
演讲嘉宾：中国科学院上海应用物理研究所高级工程师 汪雪
中国科学院上海应用物理研究所高级工程师汪雪博士带来题为“应物所SIMS平台特色与典型成果”的报告。
她重点介绍了所内SIMS平台的特色和应用成果，包括气体保护进样系统、熔盐中杂质氧的检测方法开发、高合金中元素扩散行为研究等，并分享了SIMS平台在服务熔盐堆项目、能源领域专项、上海光源重大项目以及为其他单位提供测试服务方面的典型案例。
演讲嘉宾：英国KORE公司总经理Stephen James Mullock
雪迪龙子公司英国KORE公司总经理Stephen James Mullock博士带来了题为“TOF-SIMS-An essential technique for a modern surface science laboratory”的报告。
Stephen博士介绍了飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）在现代表面科学研究中的重要性，指出该技术是表面分析实验室不可或缺的一部分，而表面分析对于半导体行业、涂层技术以及任何需要材料粘附的领域都至关重要。
此外，Stephen博士还介绍了TOF-SIMS在分子信息获取和高空间分辨率方面的优势，分享了KORE公司在TOF-SIMS仪器设计上的创新，以及为满足特定用户需求而提供的定制化服务。
演讲嘉宾：中国科学院上海硅酸盐研究所 汪正研究员
中国科学院上海硅酸盐研究所的汪正研究员带来题为“等离子体质谱在半导体用高纯材料的分析研究”的报告。
汪正研究员首先介绍了其课题组在等离子体质谱（ICP-MS）领域的研究历程和设备情况，强调了ICP-MS在半导体材料分析中的重要性。随着半导体行业的快速发展，对材料纯度的要求越来越高，尤其是金属杂质的控制对半导体性能有着至关重要的影响。他详细介绍了ICP-MS技术在检测半导体材料中痕量金属杂质方面的优势，包括高灵敏度、高分辨率和多元素同时分析能力。
演讲嘉宾：中国科学院化学研究所 张燕燕副研究员
中国科学院化学研究所的张燕燕副研究员带来了题为“原位液相二次离子质谱”的报告，分享了原位液相二次离子质谱技术在钙矿半导体前驱体溶液老化机制、膜分离界面离子传输机制以及电极电解液界面电化学反应机制等领域的应用案例。
张燕燕介绍了其团队在原位液相二次离子质谱技术开发及应用方面的研究成果。传统的二次离子质谱技术主要用于固体表面分析，而其团队通过创新性地将该技术拓展至液相体系，成功解决了液体在真空环境下快速蒸发的技术难题，实现了对溶液化学及动态物理化学界面的原位分析。
演讲嘉宾：英国KORE公司技术专家Douglas Fraser Reich
雪迪龙子公司英国KORE公司技术专家Douglas Fraser Reich带来了题为“The Applications of TOF -SIMS in Materials Science”的报告。
Fraser博士分享了他在过去25年中利用飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）技术解决材料科学问题的丰富经验，介绍了TOF-SIMS在表面化学、粘附性、多层薄膜、药物传递以及半导体中低水平元素的分布和同位素标记等领域的应用。通过实际案例，展示了TOF-SIMS在工业问题解决中的强大能力。
在主题报告结束后，参会人员分组前往SIMS实验室进行参观，近距离了解实验室的运行情况和先进设备。
参会人员参观SIMS实验室
实验室工作人员详细介绍了SIMS技术的操作流程、数据分析方法以及在实际应用中的注意事项。参观结束后，部分嘉宾参加了闭门会议，围绕“如何打破高端SIMS设备的‘卡脖子’困局”这一主题展开了深入讨论。与会专家和企业代表从技术研发、人才培养、市场推广等多个角度提出了宝贵的意见和建议，为我国高端SIMS设备的自主可控发展提供了有益的参考。
本次“质析毫微?谱绘万象”半导体痕量成分检测技术交流会圆满落幕。半导体检测技术的自主可控是我国半导体产业发展的关键，通过加强产学研合作、推动技术创新和人才培养，我国有望在高端科学仪器领域实现突破，为半导体产业的高质量发展提供有力支撑。
半导体痕量成分检测技术交流会
半导体痕量成分检测技术交流会的成功举办不仅为行业专家、学者和企业代表提供了一个交流合作的平台，也为我国半导体检测技术的自立自强注入了新的活力。相信在各方的共同努力下，我国半导体检测技术将迎来更加广阔的发展前景，为全球半导体产业的发展贡献更多中国智慧和中国力量。
